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簡要描述:VRBM1600可變速率比高能球磨機(jī)是專為使用機(jī)械合金,機(jī)械復(fù)合和機(jī)械化學(xué)等方法合成新型的納米晶體材料,功能材料和復(fù)合材料使用的可變轉(zhuǎn)速比率的行星式高能球磨機(jī)。
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VRBM1600可變速率比高能球磨機(jī)是一款最高自轉(zhuǎn)速度可達(dá)1600rpm的行星式高能球磨機(jī),用于球磨、混合各種粉體物料或?qū)饘俨牧蠙C(jī)械合金化(可配4個500ml球磨罐)。罐體的自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)速度可獨(dú)立調(diào)控(公轉(zhuǎn)速度可達(dá)400rpm,自轉(zhuǎn)速度可達(dá)1600rpm),允許用戶根據(jù)不同的處理材料自行調(diào)節(jié)公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速比,從而調(diào)節(jié)球磨或混料時的撞擊力和剪切力,達(dá)到最佳球磨混料實(shí)驗(yàn)效果。
工作原理
VRBM1600可變速率比行星式高能球磨機(jī)利用行星公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)原理,研磨球在研磨碗內(nèi)進(jìn)行高速的運(yùn)動,通過高能的摩擦力和撞擊力實(shí)現(xiàn)樣品的粉碎,可快速將樣品研磨至1μm以下。其特點(diǎn)是研磨碗自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速的傳動比率任意可變,可通過調(diào)節(jié)公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)比率來改變研磨條件的一款行星式高能球磨機(jī),可無限制改變的研磨條件,模仿各種普通球磨機(jī)的研磨過程,產(chǎn)品廣泛適用于機(jī)械合金、機(jī)械復(fù)合和機(jī)械化學(xué)等方法合成新型的納米晶體材料,功能材料和復(fù)合材料。
產(chǎn)品優(yōu)勢
◎公自轉(zhuǎn)可分開獨(dú)立調(diào)速
◎無固定傳動比研磨
◎1600rpm高速納米研磨
◎可編程|存儲|程序設(shè)置
◎支持4*500ml同時研磨
◎機(jī)械合金|機(jī)械化學(xué)|納米材料
主要特點(diǎn)
1、VRBM1600可變速率比高能球磨機(jī)是專為使用機(jī)械合金,機(jī)械復(fù)合和機(jī)械化學(xué)等方法合成新型的納米晶體材料,功能材料和復(fù)合材料使用的可變轉(zhuǎn)速比率的行星式高能球磨機(jī)。
2、研磨碗自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速的傳動比率任意可調(diào),在同類產(chǎn)品中首次實(shí)現(xiàn)通過改變轉(zhuǎn)速比率改變研磨條件的方法。
3、可實(shí)現(xiàn)最終顆粒大小0.1μm的超細(xì)粉末研磨。
4、傳動比率任意可調(diào),可模仿各種普通球磨機(jī)的研磨過程。
5、可選配半導(dǎo)體冷區(qū)系統(tǒng),可使得研磨樣品在低溫環(huán)境高能球磨。
6、可充入惰性氣體進(jìn)行機(jī)械合金,機(jī)械復(fù)合,納米材料及復(fù)合材料的合成。
7、不同材質(zhì)的裝置可供選擇,包括瑪瑙、氧化鋁、氧化鋯、不銹鋼、硬質(zhì)鋼、碳化鎢、PTFE、尼龍等材質(zhì)。
技術(shù)參數(shù)
規(guī)格型號 |
VRBM1600可變速率比高能行星球磨機(jī) |
品牌 |
馳順科技 |
產(chǎn)品特點(diǎn) |
太陽輪主盤公轉(zhuǎn)速度和研磨罐自轉(zhuǎn)速度可以獨(dú)立調(diào)控 自轉(zhuǎn)速度:0-1600rpm,連續(xù)可調(diào) 公轉(zhuǎn)速度:0-400rpm,連續(xù)可調(diào) 離心加速度:136g 可自行調(diào)節(jié)公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速比,從而調(diào)節(jié)球磨過程中的撞擊力和剪切力,達(dá)到最佳球磨混料效果 最大球磨容積:4*500ml 液晶觸摸屏可編程,可設(shè)置球磨程序、公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn),球磨時間等,支持工藝數(shù)據(jù)存儲 適用于材料合金化、球磨、混合和均質(zhì)化等 可選配半導(dǎo)體制冷系統(tǒng)(-10°),可編程獨(dú)立控制冷卻溫度、時間,帶除霜功能 |
工作臺 |
4PC,可四罐或雙罐(對稱)同時工作 雙重安全鎖,旋轉(zhuǎn)式鎖緊裝置 完全封閉但易于開啟的研磨腔室 支持4*100ml、4*250ml、4*500ml(<500ml需額外增加適配器) |
球磨機(jī)轉(zhuǎn)速 |
太陽輪主盤公轉(zhuǎn)速度和研磨罐自轉(zhuǎn)速度可以獨(dú)立調(diào)控(改變不同傳動比與不同離心加速度) 公轉(zhuǎn)速度:0-400rpm 自轉(zhuǎn)速度:0-1600rpm 設(shè)置時自轉(zhuǎn)速度≧公轉(zhuǎn)速度 建議公轉(zhuǎn)/自轉(zhuǎn)速比為1:-3 |
進(jìn)出料尺寸 |
進(jìn)料尺寸:脆性材料<10mm,其他材料<3mm 出料尺寸:濕磨:平均粒徑<1μm,干磨:平均粒徑<20μm 出料尺寸依賴于材料的物理性能以及研磨工藝如進(jìn)料尺寸、研磨介質(zhì)以及研磨時間等 根據(jù)客戶反饋該設(shè)備的最小出料粒度為0.1μm |
研磨罐規(guī)格 |
球磨罐規(guī)格:4*100ml、4*250ml、4*500mL 研磨罐材質(zhì):不銹鋼、硬質(zhì)剛、氧化鋯、瑪瑙、氧化鋁、碳化鎢、真空、聚四氟乙烯、尼龍、聚氨酯 研磨介質(zhì)材質(zhì):不銹鋼、氧化鋯、碳化鎢、瑪瑙 |
電學(xué)描述 |
AC220V,50~60Hz 功率:4KW |
設(shè)備規(guī)格 |
245kg |
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